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用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測量儀

  • 更新時(shí)間:2025-05-27
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用于質(zhì)量控制的庫侖法鍍層厚度測量儀
庫侖法的成本效益高,可準(zhǔn)確地替代X射線熒光法-前提是你可以接受一種破壞性的測量方法。它為您提供了很大的靈活性,因?yàn)樗梢杂糜趶V泛的鍍層組合。您可以使用庫侖法測量鍍層厚度,特別是在電鍍鍍層的質(zhì)量控制中,以及用于監(jiān)測印刷電路板上的殘余純錫厚度。

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品牌Helmut Fischer/德國菲希爾價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域化工,電子/電池,包裝/造紙/印刷,航空航天,汽車及零部件
在鍍層厚度測量領(lǐng)域,當(dāng) X 射線熒光無損測量在一定厚度以上達(dá)到時(shí),COULOSCOPE®CMS2 便展現(xiàn)出其價(jià)值。它運(yùn)用庫侖法,能對(duì)多種金屬鍍層的厚度進(jìn)行測量,這種方法本質(zhì)上是一種較為簡單的退鍍處理。COULOSCOPE CMS2 可精準(zhǔn)測定眾多常見的單層和多層鍍層,在質(zhì)量控制環(huán)節(jié)發(fā)揮著關(guān)鍵作用。
庫侖法具備顯著的成本效益優(yōu)勢,在可接受破壞性測量的前提下,是 X 射線熒光法的精準(zhǔn)替代方案。該方法適用范圍廣泛,可應(yīng)對(duì)豐富多樣的鍍層組合,常用于電鍍鍍層的質(zhì)量把控,以及監(jiān)測印刷電路板上殘余純錫的厚度。
STEP 測試:鍍層厚度與電化學(xué)電位的雙重測量
若需在測量鍍層厚度的同時(shí)獲取電化學(xué)電勢數(shù)據(jù),COULOSCOPE CMS2 STEP 。其采用的 STEP 測試方法,能夠同步測量多層鎳鍍層的電位差與鍍層厚度,這一特性使其成為測定此類鍍層腐蝕行為的理想工具。
產(chǎn)品特性
  1. 高精度測量:運(yùn)用庫侖法,實(shí)現(xiàn)多層金屬鍍層厚度的高精度測量。

  1. 標(biāo)準(zhǔn)合規(guī):依據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)開展測量工作。

  1. 操作便捷:通過彩色顯示屏與圖形化用戶指南,操作直觀易懂。

  1. 參數(shù)可調(diào):可靈活選擇電解速度(0.1 - 50 微米 / 分鐘)和電解面積(0.6 - 3.2mm)。

  1. 預(yù)設(shè)應(yīng)用豐富:針對(duì)不同鍍層系統(tǒng),如鐵上鍍鋅、黃銅上鍍鎳等,預(yù)設(shè)近 100 種測量應(yīng)用。

  1. 數(shù)據(jù)可視化:測量單元上實(shí)時(shí)顯示電壓曲線圖形。

  1. 評(píng)估全面:支持圖形化與統(tǒng)計(jì)化評(píng)估。

  1. 自動(dòng)化適配:帶支撐架的部分自動(dòng)化測量,適配各類樣品尺寸。

  1. 配件齊全:配備全面的配件組合,滿足特定需求。

COULOSCOPE CMS2 STEP 附加功能
  1. 同步測量:可同時(shí)測量鍍層厚度和電位差。

  1. 標(biāo)準(zhǔn)測試:依據(jù) ASTM B764 - 04 和 DIN EN 16866 標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行電位差測試。

  1. 電極處理:具備銀參比電極測量前的準(zhǔn)備功能(生成必要的 AgCl 層)。

  1. 電流調(diào)節(jié):電解電流可按需調(diào)整。

  1. 即時(shí)評(píng)估:能直接在測厚儀顯示器上對(duì)電位曲線進(jìn)行評(píng)估。

應(yīng)用領(lǐng)域
  1. 生產(chǎn)與檢驗(yàn):適用于電鍍生產(chǎn)過程監(jiān)控及成品進(jìn)廠檢驗(yàn)。

  1. 鍍層厚度測量:可精準(zhǔn)測量多種金屬鍍層厚度,范圍在 0.05–50µm(因材料而異)。

  1. 鍍層體系覆蓋

  • 多鍍層體系:例如鐵或塑料基體(ABS)上的鍍鉻 / 鎳 / 銅等多層鍍層。

  • 雙鍍層體系:如銀或銅表面的鍍錫或鍍鎳。

  • 單鍍層:像鐵上鍍鋅等。

COULOSCOPE CMS2 STEP 額外應(yīng)用
專為銅、鐵、鋁或塑料襯底(ABS)上的多層鎳層系統(tǒng)設(shè)計(jì)的 STEP 測試,進(jìn)一步拓展了其應(yīng)用邊界 。


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